运营商财ਊ经 ℑ康钊/文ý
近日，有消息称华为公布了一项新专利，疑似有关 EUVઞξ 光刻机技术◑，但这有啥含义呢？真能解决中国连一台EUV光刻机都没有的严重困境？
必须承认，EUV光刻º机是造成华为被卡脖子的重要原因——因为缺乏EUV光刻机，国内的芯片代工厂就无法提升到7纳米以上的制程；ਠ而国内芯片代工厂无法生产7纳米以上制程的芯片，就无法给华为代工5G芯片，因为华为的5G⇔芯片是7纳米或者5纳米的，否则达不到相关性能。
所以，E↓UV光刻ⓝ机不仅成了华为心中的痛，同时也是中ચ国芯片业心中的痛。
ઐ
华为最近申请的一项光刻装置专◈ψ利到底是什么呢？
据悉，华为确实申请了一种《反射镜、光刻°装置及其控制方法》，而这种方法便能够解决相干光因形成固定ટ的干涉图样而无法匀光的问题，在极紫外光的光刻装૨置基础上进行了优化，进而达到匀光的目的。
EUV光刻机的中文名字就叫极紫外光ⓚ刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技જ术，可使曝光波长一下子降到14纳米以下的特征尺寸。
但问题是EUV光刻机非常复杂，不是申请几项专利就够的。一个EUV光刻机有10万个零部件，还有，EUV光刻机还需要光刻胶等上下游产业链的配合，此外还需要←测ਗ਼量台与曝光台（双工件台）、激光器、光速矫正器、能量控制器、光速形状设置、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台、物镜、内部封闭框架和减震器等11ઠ个模块的组件。
即便华为的光刻机专利是全世界最先 进的，没有这些上下游产业链支持，也β▥是白搭。尤其是光刻机上游最为核心设备分别为光学镜头、←光学光源和双工件台。
上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国Æ产的沉੩浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要原因可能就是◙上海微电子光有技术不行，没有配套的产业链帮助提供组件。
如今华©为还ષ是要低调，这要让美国人知道，又要开始使坏Ä水了。
ća;
“掌”握科技ૄ鲜闻 （微信搜索tωechsina或扫描左侧二维Î码关注）
Ò新浪ૣ科技૧
新•浪科技为你带来最新鲜‚的科技Þe;资讯
苹࠹π果汇−
苹果ⓓ汇为你带来最bd;新鲜的苹果产品新闻
新 浪众੧测
મ
新ੌ酷◊产品第一时间免费试玩
ο新a1;浪探ⓜ索
提供最ý新ćf;的科学家ⓒ新闻，精彩的震撼图片
新浪♧‡科技意见反馈留言板੫
All Righ♩ts Reserved 新浪公司 版权所ÿ有
