运营商财经 康ⓚ钊/છ文
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近日，华为的一项专利被曝光ϒ，业内惊讶地发现，这实际上是一种EUV光刻技术，这似乎意味着华为居然在研ç发EUV光刻技术，但实际不是那么回事。
华为最近被曝光的光刻技术专利并非现在申请的，而是2016年已经在国际上申请PCT专利ઠ申请，名称是光刻设备和光刻系统。2020年，此事就已经曝光过一回，没想到最近又有人拿来炒一回，实际上是旧闻了。κ
而且，2016年的时候美国还没开始打压华为，说明Ê华为很有眼光，早就看出ઘñ光刻机是中国芯片的短板，因为自己也着手研发。
中国企业研究光刻技术bc;并不稀奇，中国上世纪6ⓚ0年代就曾布局光刻机技术，1961年我国就启动了集成电路课题研究组，专攻晶体集成电路的技术⇐。1966年，中国第一台光刻机研制成功，可以生产硅圆片。
1972年，武汉Κ三厂ⓤ编拟工业生产指南“光ઞ刻掩版制造“。
1977年，中国科学院ણ化学研究所光致抗蚀剂研究小组编制《光刻ćc;胶》作为Ād;行业资料。
1980年，清华大学研制成功的第四 代光刻机，精度⁄达到3微ⓣ米，接近国际主流光刻机水平。
华为光有这么点光刻઼技术专利是远远π不够的，光刻机Ö就认为有10万个零部件，比登天还难。
据介绍，ા华为的这项专利发明的核心内容，是提供了一种反射镜、光刻装置及其控制方法，能够解决相干光icon因形成μ固定的干涉图样而无法匀光的问题，
而且，华为研制的光刻设备可以在不改变ⓥ光刻设备与基板的相对位置的情况下制备所需的ý图案，从而避免了平移步骤和对准步骤，从而提高了处理效率以及在基板上的形成。
但这还只是原理，离实际制造光刻∨机″还是相差太远了。
大家不要炒作华为在研发光刻技术，这个事情还早着呢，也需要国内产业界共同携手才行。华为早在2016年就申请过专利，如果这种专利就能做出高端光刻机来，那中国现在也就不缺高端光刻机了。光刻机非常复÷杂º，一两个专利也没啥用。
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