近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自િ主可控的OPC软件，并已在相关企业ö实现成果转化和产业化，ⓡ填补了国内空白。
“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没í有这种软件，即使有光刻Ο机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨º一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”
据刘世元介绍，光刻是芯‰片制造中最为关键的一种工艺，就是通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺ਪ寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。没有OPC，所∪有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。
目前，全球OPC工具软件市场完全由Synopsys♦、Mento¡r、ASML-Brion等三家美国公બ司占领。
刘世元是华中科技大学集成电路测量装备研究中心、光谷实验ö室集成电>路测量检测技术创新中心主任。他早年师从原华中理工大ζ学校长、著名机械学家杨叔子院士，于1998年获工学博士学位。
2002年，刘世元☎在学院派遣下，作为最早的几个技术骨干之一，加盟上海微电Ǝ子装备有限公司（SMEE），承担国家863重大专项——“10ⓑ0nm光刻机”研制任务，为总体组成员、控制学科负责人。通过3年多的奋斗，他组建了SMEE第一个控制工程实验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。
“20年前我参与国家重大专项100nm光刻机的研制，回到学校后，我就一直在从事计算光刻方面的研究工作，坚持做基础的研究，做关键技术的攻关。”2005年，从上海回到学校之后，刘世元在摸索中逐渐找准了自己的学术定位：面向IC制造需求，立足先进光刻与纳米੭测量基础理论及学术前沿开展研究。2010年初，他明确选定了两个主攻研究方⊇向：面向IC纳米制造的计算光刻与计算测量。十多年来，他◊和团队在该领域的基础理论与技术创新上做了许多工作，相继获得国内外学术界和产业界同行的重视和认可。
“2º013年，我第一次赴日本京都参加第6届国际光谱椭偏学大会，当时还只能当听众。到了2016年，在德国柏林召开的第7届国际光谱椭偏学大会上，我应邀做了大会主题ࢵ报告，成为该学术会议创办23年来第一位做大会主题报告的华人学者。”刘世元回忆道。如今，刘世元专注集成电路计算光刻的基础研究已有20余年。刘世„元团队坚持最底层的代码一行行敲、最基础的公式一个个算，终于打造出自主可控的OPC软件算法。
刘世元表示Τ，希望自己的研究▨成果能够最终转化成产品，为国家和社会发展作贡献。今后，他将带领团队和他所创立的宇微光学软件有限Ã公司加快产品推广步伐，加快进入国内外芯片制造厂商市场，力争成为全球芯片产业链中重要的一环。
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