化合物半导体卡位“双碳”需求 加速渗透功率电子市场|碳化硅

发布日期:2022-08-20 09:40:38

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  虽然受到全球疫情反复等多种不利因素的影响,但化合物半导体在功率电子的渗透率在Θ持续攀升,不断在高压汽车电驱系统、高压快充桩、消ñ费电子适配器,数据੡中心、通讯基站电源、新型电力系统等领域拓展市场。

Î  Å碳化硅੫产业链崛起

  在日前举行的2022集邦咨询第三代半导体前沿趋势研讨会上,集邦咨询化合物半导体分析师龚瑞骄介绍,在下游需求持续旺λ盛推动下,碳化硅外延设备在近五年正在以超过20%的复合ó增长率在增长。其中,碳化硅衬底是产业发展的关键,目前业界致力于8英寸扩径,以进⇐一步降低成本。

  “4英寸导电型碳化硅衬底的价格非常稳定,主要应用在一些低端器件二极管市场;6英寸片随着技术不断成熟以及产能扩充,价格持续下降;8英寸片刚推Τ向市场,良率比较低,而且制造成本过高,短期内不具备性价比,但未来下降空间相当大。”龚瑞骄预计,6英寸片将会长时间作为市场主流−产品,8英寸片市场份额将在2026年达到约15%,而4英寸片则会慢慢淡出市场。◘

  作为全球碳化硅材料市场龙头,≅Wolfspeed已经在加速碳化硅器件的研发和生产。今年4º月,Wolfspeed全球最大的首座8英¥寸SiC(碳化硅)工厂正式开业,该工厂预计2024年达产,届时产能将达2017年的30倍。Wolfspeed已与多家器件厂商、车企签订了衬底、器件相关的长期供货协议,SiC车用等业务规模稳步扩大。

  中国正在大量布局碳化硅衬底产能,代表性厂商包括天科合达、天岳先进、烁科晶体、同光半导体、盛新材料、三安光电、南砂晶圆、露笑科技东尼电子等,产品结构逐渐向导电型调整。7月22日,天岳先进披露斩获ê近ઙ14亿元的6英寸导电型碳化−硅衬底产品订单。

  “受益于车用市场的繁荣,碳化硅市场已经开始大规模放量,但目前整个产业链还尚未完全成♥ਲ਼੭熟,代工厂的成长是非常的必要。”龚瑞骄表示,上汽、北汽、广汽、吉利等车厂正在掷重金投向本土的碳化硅产业链,泰科天润、瀚薪、派恩杰等厂商正快速崛起。

  碳化硅配套产业链也在迅速发展。爱思强工艺经理陈伟介绍,公司外延片设备已经可以实现4/6/8英寸自由切换,目前爱思强也已经向&#ffe1;ટ市场推出8英寸的SiC量产设备。据估算,公司2022年设备出货量将达到20ਭ20年的两倍。

  材料方面,贺利氏推出੏的新型材料系统可以结∞合铜键合线和烧结工艺,成功突破了现有封装材料的极限,是SiC电力电子器件封装互联的创新解决方案,尤其是适用于电动汽੘车高功率电力电子领域。

  智能高压ૡ👽ξ电网

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  ટ试水碳化硅方案

  根据TrendForce集邦咨询最新报告《20਩22第三代半导体功率应用市场报告》显示,随着越来越多车企开始在电驱系统中导入SiC技术,预估2022年车用SiC功率⇐元件市场规模将达到10.7亿美元,到2026年将攀升至39.4亿美σ元。

  除了车载应用,碳化硅的替代方案开始在工业的UPS系统(不间断电源)、轨道交通等领域推出♡ñ,其中,日本的੐三菱和日立已经走到行业的前沿,国内中车时代电气也有布局。

  基本半导体技术营销副总监刘诚介绍,公司从2018年开始布局汽车级碳化硅模块研发和制造,现推出了Pcore6、Pcore2、Pcell三个系列产品,并获得多个车型的定点。2021年通线的汽车级ö碳化硅功率模块封装产线已进入量产阶段,未ઞ来预计车用空调、新燃料汽车、新型储能电源等都将有望增加对碳化硅的应用。但受制于良品率、封装材料等特性,智能高压电网领域的应用还处于起步阶段。

  厦门大学讲座教授、国网全球能源互联网研究院原院长邱宇峰指出,各类电੣力电子设备将在以新能源为主体的新–型·电力系统的各个层面发挥关键支撑作用。

  据介绍,传统硅基器件固有的耐压低、™电流密度低、频率低、੍开关速度低等弱点,导致装置体积大、重量高、功率密度低,限制了电力电子装备的应用。相比,SiC器件的优势在于高压(达数万伏)、高温(大于500℃),可突破硅器件在电压(数kV)和温度&#25bc;(小于200℃)等方面的局限性,是制备高电压、大功率器件的新型战略性材料,高压大功率SiC器件将给电力系统带来深刻变革。

  邱ⓛ宇峰也指出,当前碳化硅器件的应用尚处于试验探索阶段,面向电网应用的碳化硅器件还需要在大尺寸 高质量衬底外延材料、芯片电流密度、高压绝缘封装材料等੏方面进一步开展研究。

  氮化镓à拓∞੊展

  数据中心市场੦ⓐ

  目前氮化镓材料被广泛应用在功率半导体、微波射频元件以及光电元件。据集邦咨∝询预估,202👽2年氮化镓的功率元件市场规模将达到2.61亿美元,并在2☎026年攀升至17.68亿美元,复合增长率达到61%。

  “随着氮化镓技术不断成熟和成本不断降低,氮化镓功&#261c;率元件应用市场正由当前&#260e;的消费电子逐步延伸到数据中心、可再生能源以及汽车领域。”龚瑞骄指出,目前硅基氮化镓市场绝大部分厂商的产品集中在600~650伏区间。碳化硅受益于800V高压汽车平台需求的推动,上车时机已∝经非常成熟,相比之下,氮化镓还处于非常早期的阶段,供应链生态和产能、技术还并不成熟。

  从技术定位来‚看,目前碳化硅比较适用高压组件,氮化镓适合在混动的OBC(车载充电机)、激光雷达BMS(电池管理系统)等,预计随着氮化镓的技术不断成熟、成本降低,氮—化♨镓有望在汽车市场进一步提升比重。

  氮化镓厂商也在从快充向更多领域拓展市场。英诺赛科基于GaN开发了下一代数据中心供电系统用功ઝ率器件,产品耐压值涵盖40V、100V、150V、650V,面向数੐据中心ࣻ通信基站、电机驱动、移动储能、工业电源等不同的应用场景。

  英诺赛科产品应用总监邹艳波介绍,公司的氮化镓48伏数据中心供电架构与传统数据↓中心架构对比,可以将功率提高4倍。目前公司Ÿ珠海基地氮化镓晶圆产能达到4000片/月,苏州基地去年6月实现ò量产,达到6000片/月,合计供应超过全球50%以上氮化镓产能。

  英诺赛科首席营销官冯雷接受证券时报记者采访时指出,英诺赛科是全球首家8英ો寸硅基氮化镓IDM公司,目前随着新产品的面世,来自充电器市场υ收入占比在逐渐降低。氮化镓产能基本可以满足今年和明年的需求,预计2024年后,氮化镓市场需求将开始指数级的Ò增长,主要将来自数据中心和服务器的应用驱动。

  “氮化镓作为第三代半导体的成功代表,在数据઎中心电源中体现出效率更高、体积小、Ζ功率密度更大的优势,各个主要数据中੏心和服务器供应商都是明确将氮化镓作为大功率电源的方向,这个技术路径基本上是不可能走回头路的。”冯雷表示,目前氮化镓功率器件成本也在下降,与硅基差异从5倍、6倍已经降到2倍甚至1.5倍非常接近的水平,但相比器件本身的成本,市场更重视氮化镓带来的系统级的成本降低和收益提高,为推广应用提供可能。

  8月9日,美国总统ਨ拜登在华盛顿签署《2022年芯片和科学法案》 ;另外,美国商务部工业与安全局(BIS)最新规定,从8月15日开始,升级超宽禁带半导体材料氧化镓和金刚石超宽▧禁带半导体衬底的出口限制。

  对于美国芯片方案,冯雷向记者表示,“半导体是一个全球化的产业,逆全球化的行为不应该被鼓励;另一方面,说明一个国家拥有自主的半导体制造能力十分重要,相信ℜ这也让更多的客户和业界ó同仁同意我们走IDM模式是完全正确的。”&#25a0;

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